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Universal-Lexikon. 2012.
Mikrostrukturtechnik — In diesem Artikel oder Abschnitt fehlen folgende wichtige Informationen: Es fehlen Informationen zu Forschung, Ausbildung Studium, den Unterbereichen der MT und zur industriellen Anwendung. Details siehe Diskussionsseite dieses Artikels. Du… … Deutsch Wikipedia
Mikrostrukturtechnik — ◆ Mi|kro|struk|tur|tech|nik 〈f.; Gen.: ; Pl.: unz.〉 Gebiet der Technik, das sich mit der Entwicklung u. Anwendung kleinster mechanischer Bauelemente u. Strukturen befasst ◆ Die Buchstabenfolge mi|kr… kann auch mik|r… getrennt werden … Lexikalische Deutsches Wörterbuch
LIGA — LIGA, a German acronym for ″Lithographie, Galvanoformung, Abformung, in English (X ray) Lithography, Electroplating, and Molding, is a process in microtechnology that was developed in the early 1980s [Becker EW et al, Production of Separation… … Wikipedia
Advanced Silicon Etching — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
Bosch-Prozess — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
Boschprozess — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
DRIE — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
Deep Reactive Ion Etching — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
Dortmund-Hörde — Stadt Dortmund Koordinaten … Deutsch Wikipedia
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik — Kategorie: Forschungseinrichtung Träger: Fraunhofer Gesellschaft Rechtsform des Trägers: Eingetragener Verein Sitz des Trägers: München Standort der Einrichtung … Deutsch Wikipedia
